Tipo de placa | ECOO V |
Características | El trabajo de la negativa, el bajo-químico de la placa de violeta, también puede funcionar con normalidad la placa de violeta |
Aplicación | Periódico |
Sustrato | Electrochemically granuloso y sustrato de aluminio anodizado |
El manómetro | 0.20/0.25/0.30/0.40mm |
Placa-setter | Los principales placa violeta setter |
Procesador | Violeta processers convencionales existentes y de bajo-químicos violeta processers |
Developer | FUJI LP. DWS. Agfa PL. 10. IMAF NEGA 910; PVD chicle |
La transformación |
Ajuste de temperatura de precalentamiento 90-100
ºC de
temperatura de superficie de la placa()
Para FUJI LP-DWS: temperatura de 25-26 ºC Desarrollador /tiempo de permanencia 16-17 segundos para Agfa PL-10: 24 ºC de temperatura de revelado /Tiempo de espera 17 segundos. |
Sensibilidad espectral | 405nm |
Energía láser | 50-60 μj /cm² |
La resolución | 150lpi (2-98%), en virtud de 1800dpi, 25 μm de línea puede ser producido |
Los productos químicos | Acabado PVG |
Precalentar | 95-121 ºC |
El desarrollo de la temperatura | 24 ± 2 ºC |
Tiempo de desarrollo | 20-30s |
Tirada | Unbaked 200.000 impresiones; horneados de 500.000 impresiones |
Vida de anaquel | 12meses bajo las condiciones de almacenamiento recomendado |
El almacenamiento | Temperatura: 18-26 ºC Humedad relativa: del 30-70% HR |
Ventajas |
El medio ambiente------ ayudar a
las empresas
para
desarrollar
El desarrollo estable rendimiento, compatible con diversos tipos de desarrolladores de reducir la inversión en equipamiento y el costo de mantenimiento |