HCVAC Hardware Vakuumbeschichtungsmaschine (LH-)
wird hauptsächlich in Flachglas, Acryl, PC, PET, Kunststoff, Metalloberfläche zum Platten hochwertiger, multifunktionstüchtiger Metallfolie, elektromagnetischer Abschirmfolie, der Reaktionsfilm-Verbundfolie, transparenter leitfähiger Film, Antireflexionsfolie (AR), Reflexionsverstärkungsfolie, LOW-E, Usw. Unser Unternehmen kann Design nach Ihren Anforderungen zu machen, komplette Ausrüstung, Antwort für den Prozess, Hand in den "Schlüssel" in der Zeit.
Eigenschaften:
1. Die Ausrüstung verwendet die Vakuum-Magnetron-Sputtertechnik, Twin Kathode, MF Sputtertechnik und die Anpassung mit fortschrittlichen Steuerungssystemen.
2. Der Produktionsprozess ist automatisiert, kontinuierlich. Die höchste Temperatur des galvanischen Werkstücks beträgt bis zu 350 Grad, die Temperatur ist zonengesteuert und einstellbar.
3. Die Vakuumkammer Materialien nimmt SUS 304, Polieren innere Vakuumkammer Wand, Spritzen Perlen externe Vakuumkammer Wand nach dem Polieren.
4. Die Vakuumkammer durch ein unabhängiges Schieber getrennt. Das von uns entwickelte Board-Stopfventil kann effektiv abgeschnitten werden und stabilisiert das Prozessgas. Derzeit nur unsere Unternehmen in den heimischen haben die Technologie zu entwerfen und zu fertigen Board-Plug-Ventil, und es hat eine bessere Dichtung wirksam und mehr Haltbarkeit als die aktuelle Klappe Ventil.
5. Die Übertragung nimmt das magnetische Targeting an, um Stabilität zu versprechen. Die Geschwindigkeit der gesamten Produktionslinie in jedem Abschnitt verwenden den Motor mit variabler Frequenz, die Drehzahl ist einstellbar.
Bemaßungsmodus
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LH-800
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LH-1000
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LH-1250
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800*1000mm
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1000*1000mm
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1250*1500mm
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Beschichtungsmodus und Hauptbestätigung
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Acht Ziele mit mehreren Kreisbögen
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Zehn Ziele mit mehreren Kreisbögen
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Zwölf Ziele mit mehreren Lichtbögen
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Stromversorgung
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Lichtbogenleistung, Filamentleistung, Impulsvorspannung
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Prozessgassteuerung
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Masse-Durchflussmesser + elektromagnetisches Keramikventil
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Vakuumkammer-Struktur
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Vertikale Tür zur seitlichen Öffnung, Postposition des Pumpensystems, doppelte Wasserkühlung
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Vakuumsystem
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Molekülpumpe +Roots-Pumpe +Mechanische Pumpe(5,0*10 -5 Pa) Diffusionspumpe +Roots-Pumpe +Mechanische Pumpe(5,0*10 -4 Pa)
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Temperatur Werkstückauflauf
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Normale Temperatur bis 350 Grad PID-Regelung, Strahlungsheizung.
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Bewegungsmodus Werkstück
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Öffentliche Rotation Frequenzregelung: 0-20 Umdrehungen pro Minute
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